论文研究-反应磁控溅射制备钇掺杂氧化铪薄膜及性能的研究 .pdf

时间:2022-09-08 18:26:41
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更新时间:2022-09-08 18:26:41

材料物理与化学

反应磁控溅射制备钇掺杂氧化铪薄膜及性能的研究,戈占伟,张昱,本文研究了在低阻硅衬底上,采用纯铪与纯钇金属靶,氧气为反应气,采用新颖的反应磁控溅射法制备了钇掺杂氧化铪薄膜。并对制得的


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