磁控溅射法制备氮掺杂的氧化锌薄膜 (2009年)

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文件名称：磁控溅射法制备氮掺杂的氧化锌薄膜 (2009年)
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更新时间：2021-05-11 02:24:21
自然科学 论文 目的比较氮掺杂的氧化锌薄膜与纯氧化锌薄膜的发光特性。方法用射频磁控溅射法，在玻璃衬底上通过控制氩气，氧气，氮气的流量，制备了纯氧化锌薄膜和氮掺杂的氧化锌薄膜样品。结果通过比较纯氧化锌薄膜样品和氮掺杂的氧化锌薄膜样品的发光谱，在466 nm(2.6 eV)附近发现了一个发光峰；氮掺杂的氧化锌薄膜样品的带隙比纯氧化锌薄膜样品的带隙宽。结论氮掺杂的氧化锌薄膜在466 nm左右的发光峰与氮有关；带隙变宽的原因：一个是样品中的晶粒小引起的量子限制效应，另一个是压应力引起的氧化锌晶格中的氧原子的2p轨道和锌原子的4s