文件名称：离子束反应溅射沉积氧化锆薄膜的微观分析 (1993年)
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更新时间：2024-05-16 02:00:52
自然科学 论文
本文采用离子束反应溅射沉积工艺在基体NaCI及si晶体上制备氧化锆薄膜。通过RBS、TEM、XRD以及XPS微观分析表明，在不同的两种通氧条件下，形成的薄膜是由非晶和微晶构成，且形成化学配比的Zroz和次氧化物Zr-O2的混合物。在5×10-3Pa氧压条件下形成ZrO2为主的氧化物，而在1×10-3Pa氧压条件下则形成zroz-x为主的氧化物。