文件名称：固态输送ZrCl4低压化学气相沉积制备ZrC涂层的特征 (2012年)
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更新时间：2024-06-14 01:35:38
工程技术 论文
采用ZrCl4-CH4-H2-Ar反应体系、固态输送ZrCl4粉末低压化学气相沉积（CVD）制备ZrC涂层。研究温度对低压化学气相沉积ZrC涂层物相组成、晶体择优生长、涂层表面形貌、断面结构、涂层生长速度和沉积均匀性等方面的影响。结果表明：不同温度下沉积的涂层主要由ZrC和C相组成；随着温度的升高，ZrC晶粒（200）晶面择优生长增强，颗粒直径增大，表面致密性增加，沉积速率上升；涂层断面结构以柱状晶为主；随着离进料口距离的增加，涂层的沉积速率逐渐减小；1 500℃时，沉积系统的均匀性比1 450℃时的差。