文件名称：氢气浓度对常压化学气相沉积 ZrC涂层的影响 (2010年)
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更新时间：2024-05-14 17:49:48
工程技术 论文
采用 ZrCl4-CH4-H2-Ar体系在 C/C材料基体上进行常压化学气相沉积(APCVD)制备碳化锆(ZrC)涂层。通 过 X射线衍射技术(XRD)和扫描电镜(SEM)对不同 H2浓度下制备的 ZrC涂层进行分析。对 H2在沉积过程中的作 用机制进行了讨论。结果表明: H2浓度对涂层的相组成、晶体的择优取向和结构形态有重要影响;无 H2或 H2浓 度较低时,涂层含有大量的热解碳,由 ZrC和碳两相组成,涂层呈多孔颗粒状;当 H2浓度(体积分数)增加到30% 以上时,涂层的相成分变为单一 ZrC相;当