文件名称：常压化学气相沉积ZrC涂层动力学与组织结构 (2011年)
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更新时间：2024-05-30 14:43:30
自然科学 论文
以 ZrCl4-CH4-H2-Ar为反应体系,采用常压化学气相沉积(APCVD)法在1473~1873 K制备 ZrC涂层,用 X 线衍射和扫描电镜分析涂层的相成分、ZrC晶粒择优生长及微观形貌,研 究 ZrC涂层沉积动力学和涂层组织结构。 研究结果表明:随沉积温度的升高,APCVDZrC涂层的沉积速率增大,ZrC微晶表观尺寸也相应增大; 1473~ 1673K沉积时,化学气相沉积过程的表观活化能为71.69 kJ/mol,沉积过程由化学动力学控制; 1673~1873 K沉 积时,过程的表观活化能为14