论文研究-浸润式光刻工艺中水渍残留的优化 .pdf

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文件名称：论文研究-浸润式光刻工艺中水渍残留的优化 .pdf

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更新时间：2022-09-14 07:11:55

水渍残留

浸润式光刻工艺中水渍残留的优化，莫少文，李杨，水渍缺陷，是浸润式光刻工艺所产生的一种特有的缺陷。由于浸润工艺引入了水，所以在曝光时，水时刻存在。但是在曝光的过程中，以