文件名称:论文研究-SJ制造工艺中光刻对准问题的改进方法 .pdf
文件大小:390KB
文件格式:PDF
更新时间:2022-09-04 08:32:13
Super Junction高电压功率半导体
SJ制造工艺中光刻对准问题的改进方法,俞乃霖,,本文基于Super Junction(SJ)结构高电压功率半导体,阐述了如何利用光刻工艺形成SJ的特殊结构,分析了其特殊器件结构造成的光刻工艺难点�
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Super Junction高电压功率半导体
SJ制造工艺中光刻对准问题的改进方法,俞乃霖,,本文基于Super Junction(SJ)结构高电压功率半导体,阐述了如何利用光刻工艺形成SJ的特殊结构,分析了其特殊器件结构造成的光刻工艺难点�