透明导电GZO/Cu/GZO多层薄膜的室温生长及性能研究 (2011年)

时间:2024-07-03 20:29:14
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文件名称:透明导电GZO/Cu/GZO多层薄膜的室温生长及性能研究 (2011年)

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更新时间:2024-07-03 20:29:14

自然科学 论文

研究Ga掺杂ZnO( GZO)和Cu薄膜形成的GZO/Cu/GZO多层薄膜体系,以期提高透明导电薄膜的综合性能。GZO/Cu/GZO多层薄膜由直流磁控溅射技术在室温下制备,研究Cu层厚度对多层薄膜结构、电学和光学性能的影响。结果表明GZO/Cu/GZO多层薄膜具有较好的结晶性能。随着Cu层厚度的增加,多层薄膜的可见光透射率有所降低,同时电学性能大幅度提升。在Cu层厚度为7.5 nm时,GZO/Cu/GZO多层薄膜获得最优的光电综合性能指标,且相对于单层GZO薄膜ΦTC因子从7.65×10-5Ω-1增加到1


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