文件名称：Zn靶与掺铝ZnO靶共溅射制备ZnO:Al薄膜及其性能 (2012年)
文件大小：1.55MB
文件格式：PDF
更新时间：2024-07-01 15:14:51
工程技术 论文
采 用Zn靶和ZnO(掺2% Al2O3(质量分数))陶瓷靶在玻璃衬底上共溅射沉积Al掺杂ZnO薄膜，即 ZnO:Al透明导电薄膜，研究Zn 靶溅射功率(0~90 W)和衬底温度(室温、100 ℃和200 ℃)对薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响。结果表明：按双靶共溅射工艺制备的ZnO:Al 薄膜的晶体结构均为六角纤锌矿结构，且随着Zn 靶溅射功率的增加，薄膜的结晶质量呈现出先改善后变差的规律，薄膜中的载流子浓度逐渐升高，电阻率逐渐降低，而薄膜的光学性能受其影响不大；随着衬底温度的升高，薄膜的结晶性能得