衬底偏压对γ′-Fe4 N薄膜磁性的影响 (2008年)

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文件名称：衬底偏压对γ′-Fe4 N薄膜磁性的影响 (2008年)
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更新时间：2021-05-20 03:51:31
自然科学 论文 采用直流磁控溅射方法, 以Ar/N2( N2 /( Ar +N2) =10%) 为放电气体, 在Si( 100) 单晶衬底上获得了γ′-Fe4N薄膜样品. 利用X射线衍射( XRD) 和振动样品磁强计( VSM) 研究衬底偏压对γ′-Fe4N薄膜样品的影响. 结果表明, 随着衬底负偏压的增大, γ′-Fe4N薄膜样品的晶胞参数减小, Fe 和N的化合效率与样品的致密度提高, 表面缺陷减少, 矫顽力降低.