射频功率对射频磁控反应溅射制备AIN薄膜的影响 (2007年)

时间:2024-05-28 06:47:48
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文件名称:射频功率对射频磁控反应溅射制备AIN薄膜的影响 (2007年)

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更新时间:2024-05-28 06:47:48

自然科学 论文

采用射频磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了AIN薄膜,通过控制工艺参数可以沉积出不同择优取向的AIN薄膜,各工艺参数中射频功率对其择优取向的影响最大。XRD表征了AIN薄膜的结构,进而选择出最优射频功率。


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