射频功率对射频磁控反应溅射制备AIN薄膜的影响 (2007年)

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文件名称：射频功率对射频磁控反应溅射制备AIN薄膜的影响 (2007年)
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更新时间：2021-05-08 13:01:08
自然科学 论文 采用射频磁控溅射法在Si（100）衬底上制备了AIN薄膜，通过控制工艺参数可以沉积出不同择优取向的AIN薄膜，各工艺参数中射频功率对其择优取向的影响最大。XRD表征了AIN薄膜的结构，进而选择出最优射频功率。