文件名称：红光OLED空穴注入层2-TNATA工艺及其性能研究 (2013年)
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更新时间：2024-06-19 21:11:55
自然科学 论文
采用真空热蒸镀的方法在高精度膜厚控制仪的监控下，对多层红光OLED空穴注入层2-TNATA有机薄膜蒸镀工艺的条件及厚度对器件的发光性能进行实验研究。实验表明制备理想的2-TNATA薄膜工艺条件为，基板与蒸发源距离为24 cm，束源炉蒸发孔径为1．5 mm，基片温度为50℃，蒸镀温度为230℃，具有空穴注入层器件较无此层器件的发光性能得到显著提高，其空穴注入层最佳厚度为20 nm。该器件在12 V电压下亮度从1800 cd／m2提高到7600 cd／m2，提高了4倍，发光效率从1．8 cd／A提高到2．6