文件名称：沉积速率对ZnO薄膜生长过程和微结构影响的分子反应力场方法研究* (2013年)
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更新时间：2024-06-07 02:22:10
工程技术 论文
应用基于反应力场的分子动力学方法研究了ZnO薄膜(001)表面作为衬底的薄膜沉积生长过程，初步讨论了500K时，沉积速率(1．5、2．5和3．5m/s)变化对沉积薄膜质量的影响。结果表明沉积速率约3．5m/s时，衬底结构最稳定，沉积原子结构径向分布函数曲线特征峰尖锐、明显，有序度较高；每原子层密度分析表明优化的沉积温度和沉积速率下，沉积形成的薄膜结构稳定而又致密。在预置衬底表面平坦的情况下薄膜呈现一种岛状的生长模式，近衬底区Zn-O键呈现理想的生长取向，而近表面区则两种生长取向共存，导致其生长前锋交汇处形