文件名称：溅射功率和工作气压对磁控溅射铬薄膜光电学性质的影响 (2012年)
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更新时间：2024-06-07 12:27:39
自然科学 论文
采用直流磁控溅射方法在石英基片上沉积铬薄膜．研究溅射功率、工作气压对铬薄膜结构、电学和光学性质的影响．利用X射线衍射仪、分光光度计和Van der Pauw方法分别检测薄膜的结构、光学和电学特性，利用德鲁特模型和薄膜的透射、反射光谱计算薄膜的厚度和光学常数．结果表明：制备的铬薄膜为体心立方的多晶态；在工作气压0．6 Pa一定时，随着溅射功率从40 W增加到120 W，沉积速率呈非线性增加，薄膜更加致密，电阻率连续降低，在550 nm波长处，薄膜的折射率从3．52增大到功率80 W时的最大值(3．88)，尔