射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO2薄膜的研究 (2006年)

【文件属性】：

文件名称：射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO2薄膜的研究 (2006年)

文件大小：1.3MB

文件格式：PDF

更新时间：2024-06-13 06:15:22

工程技术 论文

二氧化铈具有高折射率、介电常数和紫外吸收率，因此它广泛地应用于各种光学和电子器件。本文采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO2薄膜。溅射过程中，首先制备纯二氧化铈靶材，然后在不同的功率上调节不同的基片温度进行溅射。采用光电子能谱、X射线衍射、拉曼光谱和扫描电镜等测试方法表征薄膜的特性。