射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO2薄膜的研究 (2006年)

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文件名称：射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO2薄膜的研究 (2006年)
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更新时间：2021-05-24 12:28:42
工程技术 论文 二氧化铈具有高折射率、介电常数和紫外吸收率，因此它广泛地应用于各种光学和电子器件。本文采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO2薄膜。溅射过程中，首先制备纯二氧化铈靶材，然后在不同的功率上调节不同的基片温度进行溅射。采用光电子能谱、X射线衍射、拉曼光谱和扫描电镜等测试方法表征薄膜的特性。