PECVD法氮化硅薄膜生长工艺的研究 时间:2022-02-07 09:58:13 【文件属性】: 文件名称:PECVD法氮化硅薄膜生长工艺的研究 文件大小:687KB 文件格式:PDF 更新时间:2022-02-07 09:58:13 半导体 PECVD法氮化硅薄膜生长工艺的研究讲述了不同工艺参数对SiN薄膜的影响 立即下载