文件名称：退火对Al掺杂ZnO薄膜结构和磁性的影响 (2011年)
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更新时间：2024-07-04 14:56:06
自然科学 论文
采用直流磁控溅射法制备了Al掺杂ZnO薄膜，并在不同的氛围和温度下进行了退火处理.利用X射线衍射仪(XRD)和物理性能测量仪(PPMS).对薄膜的结构和磁性进行了表征.采用了一种改进的磁性修正方法对磁测量结果进行了修正.结果表明，不同的退火温度和氛围对薄膜的微结构和磁特性有着较大的影响，与真空退火处理的薄膜相比，空气退火处理的薄膜样品呈现了明显的铁磁性，磁矩约增加了一个数量级.室温铁磁性可能与Al和ZnO基体之间发生的电荷转移以及在不同退火氛围下Al在ZnO晶格中的地位变化有关.