文件名称:论文研究-退火对ZnO纳米杆/n -Si异质结I-V 特性的影响 .pdf
文件大小:487KB
文件格式:PDF
更新时间:2022-09-08 15:35:45
微电子学
退火对ZnO纳米杆/n -Si异质结I-V 特性的影响,黄晖辉,方国家,采用水热法在n型重掺杂的硅片(100)上生长了垂直致密的ZnO纳米杆,并制备了ZnO纳米杆/n -Si异质结。研究了在630℃下不同退火时间对ZnO��
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退火对ZnO纳米杆/n -Si异质结I-V 特性的影响,黄晖辉,方国家,采用水热法在n型重掺杂的硅片(100)上生长了垂直致密的ZnO纳米杆,并制备了ZnO纳米杆/n -Si异质结。研究了在630℃下不同退火时间对ZnO��