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文件名称：铜膜厚度对铜膜结构和光电学性质的影响 (2010年)
文件大小：757KB
文件格式：PDF
更新时间：2021-05-18 17:44:37
自然科学 论文
采用热蒸发方法在玻璃基片上沉积100 nm以内不同厚度的铜薄膜。利用X射线衍射仪、原子力 显微镜和分光光度计分别检测薄膜的结构、表面形貌和光学性质,用Van der Pauw方法测量薄膜的电学性 质。结果表明,可以将薄膜按厚度划分为Ⅰ区 (0～11.5 nm)的岛状膜、Ⅱ区 (11.5～32 nm)的网状膜和 Ⅲ区 (> 32.0 nm)的连续膜。薄膜的表面粗糙度随膜厚的增加,在Ⅰ、Ⅲ区时增加,Ⅱ区时减小。薄膜电 阻在Ⅰ区时无法测量,在Ⅱ区随膜厚的增加急剧下降,而在Ⅲ区时随膜厚增加缓慢减小。薄膜的光学吸收