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文件名称：电沉积法制备CuInSe2薄膜的组成与形貌 (2007年)
文件大小：531KB
文件格式：PDF
更新时间：2021-05-23 22:37:26
工程技术 论文
采用电沉积法制备了CuInSe2薄膜材料，研究了制备工艺条件对材料组成、结构与性能的影响。研究结果表明：最佳的沉积电位范围为-0.6～0.8V（vs SCE）；硒化退火是获得高质量CuInSe2薄膜的必要过程，硒化退火温度应控制在440～610℃范围内；在不同沉积电位和不同电解质浓度组成溶液中，通过电沉积并在500℃下硒化退火均可获得黄铜矿结构CuInSe2多晶薄膜；沉积电位的负移会使膜层中CuInSe2的相对含量增加，晶型完善，且杂相减少；随着电解质浓度的增加，电沉积CuInSe2退火后结晶程度变好，颗