研究简报衬底温度对NiTi薄膜晶化温度的影响 (2005年)

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文件名称：研究简报衬底温度对NiTi薄膜晶化温度的影响 (2005年)

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更新时间：2024-05-28 21:19:54

自然科学 论文

采用直流磁控溅射方法,制备出沉积在不同温度衬底上的 NiTi薄膜.应用 X射线衍射、小角 X射线散射和差热扫描量热法研究了两种衬底温度(室温和573 K)溅射的 NiTi合金薄膜晶化温度和在763 K退火1 h的晶化程度.