文件名称：等离子体辅助热丝化学气相沉积金刚石膜 (2004年)
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更新时间：2024-06-02 00:59:07
自然科学 论文
采用等离子辅助热丝化学气相沉积(PAHFcVD)装置进行了金刚石薄膜的制备。并运用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)测试手段对沉积的金刚石薄膜进行了观察分析。在甲烷与氢气体积比为2：98、基体温度为800℃、等离子体偏压400 V、沉积气压4 kPa的沉积条件下可获得晶形完整的金刚石膜，其沉积速率可达1．1μm・h-1。