文件名称：430不锈钢腐蚀行为及钝化膜半导体特性的研究 (2013年)
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更新时间：2024-06-01 02:34:33
自然科学 论文
使用动电位极化曲线、电化学阻抗谱(EIS)技术和电容电位法(Mott-Schottky)研究了430不锈钢在不同Cl-浓度下的腐蚀行为，并结合点缺陷模型(PDM)计算了钝化膜上点缺陷的密度及扩散率。结果表明：Cl-浓度的增大，钝化膜上自腐蚀电流增加，弥散系数及膜电阻减小，点蚀加剧；在-0．5～0．5V电位区间，钝化膜表现为n型半导体性质，膜中点缺陷为氧空位和阳离子间隙，溶液浓度的增加，会造成钝化膜内点缺陷浓度和扩散系数的增大。本实验对Cl-破坏钝化膜的微观机理研究有一定参考价值。