文件名称：电场对不平衡磁控溅射DLC薄膜激光损伤性能的影响
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更新时间：2024-04-27 01:48:26
Diamond-like carbon films Unbalanced magnetron
通过不平衡磁控溅射在Si衬底上制备了不同厚度的DLC膜。 （UBMS）方法使用相同的实验参数来调查之间的关系样品的电场强度分布和激光损伤特性。 结果表明薄膜中不同的电场强度分布会导致多种激光损伤特性。 为了DLC膜的光学厚度为287、341、421和545.9 nm，电场强度（归一化膜-空气界面处的电场强度平方）分别为0.9407、0.7709、0.4298和0.2241 当波长为1064 nm时。 在相同的高能激光照射下，裂纹的大小电场强度较低的薄膜的斑点小于电场强度较高的薄膜的斑点。 DLC样品的激光诱导损伤阈值（LIDT）分别为0.6、0.8、1.2和1.5 J / cm2 （1064 nm，10 ns）。 这表明，如果薄膜具有较低的电，则可以获得更高的LIDT。 膜-空气界面处的场强。 因此，可以使膜的耐激光损伤性达到通过在叠膜过程中将电场优化为较低强度的电场来改善设计和材料匹配。