文件名称：热退火对离子注入制备Au纳米颗粒生长和光学性能的影响 (2015年)
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更新时间：2024-06-09 20:49:53
工程技术 论文
利用金属蒸发真空多弧离子源(MEVVA源)注入机，将Au离子注入到高纯石英玻璃衬底中来制备Au纳米颗粒，Au离子注入的加速电压分别为20、40和60 k V，注入剂量为1×1017ions/cm2，随后将注入样品在普通管式退火炉中700~1000℃退火处理。研究了注入条件和热退火参数对Au纳米颗粒的形成、生长、分布以及光学性能的影响。采用光学吸收谱、扫描电子显微镜和透射电子显微镜对注入样品的光学性能、表面形貌和微观结构进行了测试和表征。实验结果表明，采用该低压离子注入结合热退火工艺的方法，所制备的Au纳米