文件名称：弱光胁迫下黄瓜苗期下胚轴性状的遗传分析 (2009年)
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更新时间：2024-07-06 01:26:00
自然科学 论文
[目的]阐明弱光胁迫下黄瓜下胚轴性状的遗传特点。[方法]以耐弱光黄瓜品系 M22与不耐弱光黄瓜品系M14及其F1、F2、回交世代(B1、B2)为试验材料,应用F2群体分离分析方法与主基因+多基因模型分析法,于2007和2008年对弱光(日平均光强为100μmol/( m2. s))条件下黄瓜的下胚轴长与下胚轴粗进行遗传分析。[结果]群体分离分析结果表明,黄瓜 F2代群体中下胚轴粗和下胚轴长性状遗传变异幅度均较小,其中下胚轴粗在2007 和2008年的变异幅度分别为0.258和0.226 cm,下胚轴长分别