文件名称：磁控溅射氧化钒薄膜的相组成及性能 (2008年)
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更新时间：2024-06-14 06:36:00
工程技术 论文
采用反应磁控溅射法在玻璃基底上沉积氧化钒薄膜,分别利用X射线衍射 (XRD)、原子力显微镜(AFM) 和红外光谱仪分析样品的物相、表面形貌和红外光透过率。结果表明:氧气体积分数低于15%时,薄膜为低价钒氧化物,高于20%时薄膜为V2O5;氧气体积分数等于15%时,溅射功率由150 W增加到200 W,薄膜中钒的价态变低;当溅射功率为250 W时,薄膜物相变成VO2。随着沉积时间从30 min增加到60 min,原子力显微分析显示VO2颗粒尺寸从约200 nm增加到400 nm;红外光透过率范围从55%~6