光学材料的干法刻蚀研究

时间:2024-01-12 04:21:30
【文件属性】:

文件名称:光学材料的干法刻蚀研究

文件大小:50KB

文件格式:DOCX

更新时间:2024-01-12 04:21:30

腐蚀刻蚀

摘 要:本文对化学材料二氧化硅的干法刻蚀工艺进行研究,运用反应离子刻蚀设备对二氧化硅进行了刻蚀实验,通过对不同工艺条件下二氧化硅的刻蚀速 率、均匀性等参数对比,最终得出了二氧化硅等同类光学材料最佳的干法刻蚀 工艺条件。


网友评论