反应离子束蚀刻中温度效应的研究 (1998年) 时间:2021-04-28 12:04:10 【文件属性】: 文件名称:反应离子束蚀刻中温度效应的研究 (1998年) 文件大小:14KB 文件格式:PDF 更新时间:2021-04-28 12:04:10 工程技术 论文 介绍了一种新型的千法刻蚀方法―冷源反应离子束刻蚀法用来刻蚀各种微光学器件,并着重研究了刻蚀过程中的温度效应,提出了解决温度效应的有效方法。 立即下载