文件名称:金刚石薄膜/立方氮化硼异质结的制备 (2000年)
文件大小:169KB
文件格式:PDF
更新时间:2024-06-08 21:34:48
自然科学 论文
利用高温高压合成的立方氮化硼单晶材料,采用恒浓度高温扩散方法制备n型立方氮化硼半导体材料.通过化学气相沉积方法在n型立方氮化硼上外延生长P型金刚石薄膜.在此基础上,通过欧姆接触电极的制作,制备出金刚石薄膜/立方氮化硼异质pn结,并给出pn结的伏安特性曲线.
文件名称:金刚石薄膜/立方氮化硼异质结的制备 (2000年)
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自然科学 论文
利用高温高压合成的立方氮化硼单晶材料,采用恒浓度高温扩散方法制备n型立方氮化硼半导体材料.通过化学气相沉积方法在n型立方氮化硼上外延生长P型金刚石薄膜.在此基础上,通过欧姆接触电极的制作,制备出金刚石薄膜/立方氮化硼异质pn结,并给出pn结的伏安特性曲线.