氧氛围下PLD法沉积纳米金刚石薄膜* (2003年)

时间:2024-06-15 07:36:45
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文件名称:氧氛围下PLD法沉积纳米金刚石薄膜* (2003年)

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更新时间:2024-06-15 07:36:45

自然科学 论文

用固体脉冲激光(Nd:YAG)烧蚀石墨靶在镜面α-Al2O3(0001)上沉积纳米金刚石薄膜。用Raman谱、XRD衍射谱和SEM分别对薄膜的成键情况和表面形貌进行了分析。结果表明:显微Raman谱出现三个峰包:1 150 cm-1、1 350 cm-1、1 580 cm-1。分别对应着纳米金刚石特征峰、石墨的D峰和G峰;XRD衍射谱在41.42°出现金刚石的(100)衍射峰。实验结果表明,影响薄膜生长的关键参数主要是氧气压的大小和衬底的温度。在氧气压为6 Pa和衬底温度为550℃时,制备的薄膜质量较好。


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