文件名称：电沉积坡莫合金薄膜的结构和纵向磁阻抗效应 (2005年)
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更新时间：2024-06-12 17:46:58
自然科学 论文
采用电沉积法制备了厚度为1. 1μm到6.9μm的坡莫合金薄膜.经X-射线衍射分析,其结构为fcc结构,其中NiFe(111)衍射峰的强度明显增强.该薄膜的磁滞回线测量结果表明：其矫顽力随着薄膜厚度的增加而减小.在交流Imn＝6 mA.频率范围在0. 05 kHz到600 kHz的条件下,纵向磁阻抗比随着薄膜厚度的增加而增加,其最小值可达-52％.