TC11微弧氧化膜制备及其结构性能研究* (2011年)

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文件名称：TC11微弧氧化膜制备及其结构性能研究* (2011年)
文件大小：241KB
文件格式：PDF
更新时间：2021-05-18 07:51:47
工程技术 论文 在Na2SiO3-Na2WO4-NaOH混合电解液中，利用微弧氧化(MAO)技术在TC11合金表面制备了氧化膜。用扫描电镜(SEM)，X射线能谱仪(EDS)， X射线衍射仪(XRD)对氧化膜微观结构、化学成分、厚度以及相组成进行了分析，采用HVS-1000维氏显微硬度计、MFT-4000划痕试验机、电化学测量系统完成氧化膜理化性能测试。实验结果表明，微弧氧化膜平均厚度达到135μm，分为两层结构，外层疏松，内层致密，氧化膜主要由TiO2、γ-Al2O3、Al2TiO5以及部分非晶SiO2组成，主要元素在断