微弧氧化法制备磁性薄膜及其组成结构分析* (2014年)

时间:2021-05-18 09:04:18
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文件名称:微弧氧化法制备磁性薄膜及其组成结构分析* (2014年)
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更新时间:2021-05-18 09:04:18
工程技术 论文 以钛金属作衬底,FeSO4 溶液为主要原料,采用微弧氧化法制备了磁性薄膜,薄膜的饱和磁化强度为 7 7 .7 AU+2022m2/kg.探索了薄膜的形成工艺.运用IR、XRD、XPS和SEM等手段表征了磁性薄膜的组成和形貌,结果表明磁性薄膜主要由 Fe3 O4 和(Fe2 O3 )xU+20222 H2 O 晶体组成,表面比较光滑致密.简要推断了磁性薄膜的形成机理.

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