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文件名称：γ′-Fe 4 N纳米晶薄膜的结构及低温磁性 (2009年)
文件大小：896KB
文件格式：PDF
更新时间：2021-05-09 03:40:29
自然科学 论文
采用直流磁控溅射方法, 在Si( 100) 单晶衬底上制备γ′-Fe 4 N纳米晶薄膜样品, 并利用X射线衍射( XRD) 和振动样品磁强计( VSM) 对样品的结构和磁性进行测试分析, 给出了比饱和磁化强度及矫顽力与温度的关系. 结果表明, 样品沿(111) 晶面择优生长, 具有单一的易磁化方向, 且易磁化方向平行于( 111) 晶面. 随着测量温度的降低, γ′-Fe 4 N纳米晶薄膜样品的比饱和磁化强度σs 增加, 矫顽力H c 增大, 剩磁比σr /σs 减小. 通过理论拟合确定了比饱和磁化强度与