高温热退火时异质结薄膜CeO2/Si界面扩散-反应的机理研究* (1999年)

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文件名称：高温热退火时异质结薄膜CeO2/Si界面扩散-反应的机理研究* (1999年)

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更新时间：2024-05-31 20:46:47

自然科学 论文

基于CeO2/Si异质结在氧气氛下高温退火界面存在扩散反应过程，建立了扩散-反应方程，对有关的实测数据进行了计算机拟合，其结果与实验能很好地吻合。不同温度下的拟合结果还表明，异质结界面处O，Ce，Si的扩散系数及Si的氧化反应系数均随温度指数上升，并计算出扩散反应激活能。