文件名称：基片温度对氧化铋薄膜光学性质的影响 (2011年)
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更新时间：2024-06-09 04:59:51
自然科学 论文
在玻璃基片上直流磁控溅射沉积氧化铋薄膜,基片温度从室温增加到300℃并保持其它沉积条件一致,研究基片温度对薄膜光学性能的影响。样品的晶体结构、表面形貌和透射光谱分别用X射线衍射仪、原子力显微镜和分光光度计进行测量。结果表明,随着基片温度的增加,样品中Bi O的(120)衍射峰强度增强,表面颗粒直径逐渐减小;基片温度为250,300℃样品出现了Bi O 的(006)衍射峰。采用拟合透射光谱数据的方法计算薄膜的折射率、消光系数及厚度,并求出光学带隙。随基片温度的增加,氧化铋薄膜的折射率减小,消光系数在10～1