退火温度对 TiO 2薄膜光学性能的影响 (2003年)

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文件名称：退火温度对 TiO 2薄膜光学性能的影响 (2003年)
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更新时间：2021-05-15 12:54:25
自然科学 论文 为确定合适的 TiO 2薄膜退火工艺,研究了退火温度对采用中频交流反应磁控溅射技术制备的 TiO 2薄膜光学性能的影响。利用分光光度计测得石英玻璃基体 TiO 2薄膜试样的透射谱和反射谱,用包络线法和经验公式法计算出薄膜的光学常数。结果表明: TiO 2薄膜的折射率随退火温度的上升而增加,低温退火时薄膜消光系数略有减小, 500℃退火时 TiO 2薄膜具有最优的光学性能。