论文研究-8寸晶圆单片晶圆良率降低现象产生的原因及改善方法 .pdf

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文件名称：论文研究-8寸晶圆单片晶圆良率降低现象产生的原因及改善方法 .pdf
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更新时间：2022-09-06 15:59:06
半导*造 8寸晶圆单片晶圆良率降低现象产生的原因及改善方法，姜俊克，黄其煜，本文旨在研究8寸芯片制造工厂里单片晶圆良率降低现象产生的原因并提出改善方法。在目前比较成熟的8寸的芯片制造工厂中，随着制程�