(Si/Ge)n多层薄膜的设计制备及光吸收性能* (2012年)

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文件名称：(Si/Ge)n多层薄膜的设计制备及光吸收性能* (2012年)
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更新时间：2021-05-10 10:32:39
工程技术 论文 采用射频磁控溅射技术，在石英玻璃衬底上沉积了具有不同层数和厚度的（Si/Ge）n多层薄膜。XRD、Raman光谱测试表明，溅射态薄膜为微晶结构，在溅射过程中层间扩散形成Si-Ge振动键，溅射时间和薄膜层数影响着薄膜层间的扩散和结晶率；FESEM结果表明，薄膜表面由颗粒团簇构成，层与层之间有明显界面。UV-vis光谱测试表明，（Si/Ge）n多层薄膜在可见光范围内具有较宽的吸收，增加薄膜层数可扩大太阳能光谱的响应范围，而增加Si单层膜厚度对光吸收范围的影响较小。