文件名称：离子辅助沉积对Nb2O5薄膜特性的影响 (2004年)
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更新时间：2024-06-07 10:22:05
工程技术 论文
为了提高Nb2O5薄膜的聚集密度,改善氧化铌薄膜的光学特性和机械特性,采用霍尔源离子辅助沉积 (IDA)技术在K9玻璃基板上制备了Nb205单层薄膜,并与常规沉积条件下制备的Nb2O5薄膜作了比较。由于IAD技术使Nb2O5膜的聚集密度提高了14％,膜层折射率从常规工艺的2.03上升到2.18,膜层的附着力和牢固度从常规下艺的1.0X107 N/m2它 高到129。7X107 N/m2。