脉冲激光沉积AIN薄膜的工艺优化与机械性能 (2013年)

时间:2021-05-12 23:54:24
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文件名称:脉冲激光沉积AIN薄膜的工艺优化与机械性能 (2013年)
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更新时间:2021-05-12 23:54:24
自然科学 论文 采用脉冲激光沉积(PLD)方法在单晶Si衬底上制备AIN薄膜.利用扫描电子显微镜(sEM)、X射线衍射仪(XRD)对薄膜的形貌和微观结构进行了分析;采用显微硬度仪、球-盘式磨损试验机和涂层自动划痕仪测试了薄膜的机械性能.通过正交实验,分析了工艺参数与AIN薄膜硬度之间的关系,得出沉积气压是对薄膜硬度影响大的因素,并研究了沉积气压对AIN薄膜表面形貌、微观结构、沉积速率、硬度、结合力和摩擦性能的影响.实验结果表明:所制备的薄膜均为非晶结构,随着沉积气压的上升,薄膜沉积速率降低,薄膜表面粗糙度降低,摩擦系数变

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