文件名称：论文研究-硅烷浓度对VHF-PECVD制备过渡区微晶硅薄膜特性的影响 .pdf
文件大小：263KB
文件格式：PDF
更新时间：2022-09-04 07:33:14
甚高频等离子体化学气相沉积（VHF-PECVD）
硅烷浓度对VHF-PECVD制备过渡区微晶硅薄膜特性的影响，汪文明，杨恢东，采用甚高频等离子体化学气相沉积（VHF-PECVD）技术，通过调节硅烷浓度，获得了系列非晶/微晶过渡区薄膜材料，并测试分析了硅烷浓度��
论文研究-硅烷浓度对VHF-PECVD制备过渡区微晶硅薄膜特性的影响 .pdf
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