沉积温度对NbN膜层微观结构的影响 (2001年)

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文件名称：沉积温度对NbN膜层微观结构的影响 (2001年)
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更新时间：2021-05-17 00:59:34
自然科学 论文 利用有磁过滤器的等离子体沉积装置,在不同温度的Si基底上沉积氮化铌(NbN)薄膜,通过XRD,XPS,SEM等分析,研究了NbN薄膜的表面形貌与徽观结构跟温度的关系。发现沉积温度对择优取向有较强的影响:从室温到约300℃得到的薄膜在(220)峰表现出很强的择优取向,500℃(220)峰变得很弱,(200)峰表现出择优取向,但不明显。同时,膜层中N和Nb的原子比先随温度的升高而升高,后稍有降低。温度升高8-NbN的晶粒变大。室温到300℃很难得到完整的NbN膜,而在500℃得到的薄膜完整且光滑,膜层中得到单