文件名称：论文研究-原子层沉积生长Al2O3薄膜表面钝化机理的研究 .pdf
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更新时间：2022-09-05 06:33:36
硅太阳能电池
原子层沉积生长Al2O3薄膜表面钝化机理的研究，孙平杨，张炳烨，本文采用原子层沉积(ALD)方法在不同导电类型的制绒单晶硅(c-Si)表面生长一层23 nm厚的Al2O3薄膜。Al2O3薄膜结构利用场发射扫描显微镜(FESEM)
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