文件名称:磁场在硅集成电路制造工艺中的应用 (2009年)
文件大小:568KB
文件格式:PDF
更新时间:2024-06-11 20:24:20
自然科学 论文
分析了磁控直拉法技术和磁场增强型反应等离子刻蚀技术在现代半导体集成电路制造工艺中的应用 。简要论述了学科交叉的重要意义。
文件名称:磁场在硅集成电路制造工艺中的应用 (2009年)
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自然科学 论文
分析了磁控直拉法技术和磁场增强型反应等离子刻蚀技术在现代半导体集成电路制造工艺中的应用 。简要论述了学科交叉的重要意义。