文件名称：退火处理对Dy4(Co21 Cu79)96颗粒膜结构和巨磁电阻效应的影响 (2012年)
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更新时间：2024-06-18 22:25:11
自然科学 论文
采用磁控溅射法制备Dy4 (Co21 Cu79 ) 96颗粒膜,研究薄膜的巨磁电FA(GMR)效应及磁性能．应用X射线衍射仪(XRD)对薄膜微观结构随退火温度的变化进行分析,采用四探针及振动样品磁强计(VSM)测量薄膜的磁电阻和磁性能．X射线衍射实验结果表明:制备态的薄膜形成了单相亚稳态面心合金结构,退火处理将促进Cu和Co的相分离．磁电阻测试发现：所有不同成分的Dym (Co21Cu79) 100-x(x=0,4,8,9,12,14)薄膜样品均随着退火温度的升高,颗粒膜巨磁电阻(GMR)效应不断增大,当