文件名称：沉淀法制备高比表面积SiO2的工艺研究 (2013年)
文件大小：361KB
文件格式：PDF
更新时间：2024-06-19 21:25:49
自然科学 论文
以Na2SiO3・9H2O、H2SO4为原料，沉淀法路线合成高比表而积SiO2．实验考察了反应温度、H2SO4溶液浓度、 Na2SiO3溶液浓度、反应终点pH值、表面活性剂添加量、后处理试剂、干燥方式等因素对SiO2比表面积的影响．采用BET低温液氮吸附比表面分析仪、热重分析仪、场发射扫描电镜、激光粒度分析仪、傅里叶变换红外光谱仪等分析仪器对 SiO2样品进行表征．结果表明，在c(H2SO4)=1．5 mol／L、ω(Na2SiO3)=6．3％、反应温度t=60℃、pH值为5，用正丁醇置换水等实验条件下，