接近式光刻机曝光系统的设计 (1986年)

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文件名称：接近式光刻机曝光系统的设计 (1986年)

文件大小：468KB

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更新时间：2024-06-18 02:08:16

工程技术 论文

本文从瑞利一索末菲衍射公式出发,对接近式光刻机曝光系统进行理论分析和计算,得出其光学性能参数。同时给出依据这些参数所设计的系统所得的结果。